半导体废气处理
半导体废气处理由于制程技术不断演进,使得相关供应系统等级及质量日趋精密且复杂,如毒性气体,化学药品或纯水系统等,而此物质的排放却造成环境恶化的来源之一;因此,如何处理此类高纯度且大量的毒性物质之排放,将是厂务废水,废气处理的重要工作与任务。
废水处理系统
半导体厂废水之来源,可略分为制程废水,纯水系统之废水,4s废气处理设备,废气洗涤中和液废水等三种。各排放水可分为直接排放及回收处理方式。
1.制程废水:
A.直接排放-HF浓废液,HF洗涤废水,石油化工废气处理技术,酸/碱性废水,晶圆研磨废水等五种,经各分类管线排至废水厂。
B.回收处理-**系列(Solvent,IPA), H2SO4,废气处理,DIR70%,及DIR90%等,经排放收集委外处理或直接再利用。
2.纯水系统之废水:
直接排放-纯水系统再生时之洗涤药剂混合水(含盐酸再生/洗涤液及碱洗涤液)回收处理-系统浓缩液(逆渗透膜组,en125废气处理装置,**限外滤膜组)或是碱性再生废液。
水吸收法原理
水吸收法原理:利用臭气中某些物质易溶于水的特性,使臭气成分直接与水接触,从而溶解于水达到脱臭目的。适用范围:水溶性、有组织排放源的恶臭气体。优点:工艺简单,管理方便,设备运转费用低 产生二次污染,需对洗涤液进行处理。缺点:净化效率低,应与其他技术联合使用,对硫醇,脂肪酸等处理效果差。
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